2020年ITO導電玻璃行業現狀及發展前景分析

• 2020年8月24日 HaoChenChong來源：互聯網 1316 86
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ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)導電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫(俗稱ITO)膜加工制作成的。

2020年ITO導電玻璃行業現狀及發展前景分析

ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)導電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫(俗稱ITO)膜加工制作成的。在平板顯示產業中主要應用在觸摸屏和液晶面板領域。觸摸屏領域應用的是TP-ITO導電玻璃，而液晶面板領域應用的是LCD-ITO導電玻璃，兩者的主要區別在LCD-ITO導電玻璃還會在鍍ITO層之前，鍍上一層二氧化硅阻擋層，以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內液晶里擴散。高端LCD-ITO玻璃在濺鍍ITO層之前基片玻璃還要進行拋光處理，以得到更均勻的顯示控制。LCD-ITO導電玻璃基板一般屬超浮法玻璃，所有的鍍膜面為玻璃的浮法錫面。

ITO導電玻璃是一種既透明又導電的玻璃，它采用磁控濺射沉積成膜技術，以ITO材料作為濺射靶材，在玻璃基板上生成一層很薄的ITO膜。這層ITO膜同時具有良好的導電性和透光性，適于制作透明顯示電極，是平板顯示器生產的重要原材料之一。玻璃基板的厚度通常只有0.3~1.1mm，它具有重量輕、透明度高、平整度高、有一定的機械硬度、容易切割加工等特點，因此被廣泛應用于平板顯示器上。ITO導電玻璃隨著20世紀70年代初LCD顯示器的興起至今已經歷了40多年的歷程，并從過去只能生產高電阻、小尺寸、普通表面、黑白顯示的產品，發展到了現在能夠生產低電阻、大尺寸、拋光表面、彩色顯示的產品。

早期的ITO導電玻璃是采用銦錫合金作為濺射靶材，通過氧化反應而成膜的。此種靶材對濺射工藝控制有極其嚴格的要求，尤其是氧氣流量的稍許波動，就可能形成氧化反應不充分，而使膜層透過率和蝕刻性能變差;或因氧氣流量較大，而造成靶面“中毒”，使濺射效率下降，從而使膜層變薄、電阻升高。鑒于此，材料商開發出了氧化靶，即將高純度的氧化銦和氧化錫超細粉末，按一定比例充分混合好，再采用粉末冶金工藝燒結成固體靶材。隨著制作工藝的不斷改進，ITO靶材密度逐步提高，現在已達到99.5%以上，基本滿足了ITO導電玻璃的需要。ITO導電玻璃的性能指標主要有基板玻璃的外形尺寸、表面電阻(或方塊電阻)、透光率、膜層厚度、蝕刻性能和可靠性等。

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