掩膜版市場規(guī)模 掩膜版發(fā)展前景分析

• 2021年12月21日 ZhouJiaLiang來源：互聯(lián)網(wǎng) 590 33
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掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

掩膜上承載著設(shè)計圖形，光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻，掩膜不直接與晶圓表面接觸。

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報告《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》分析

掩膜版市場規(guī)模

近年來，全球光掩膜版市場發(fā)展態(tài)勢較好，行業(yè)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大，2019年，全球光掩膜版市場規(guī)模達(dá)到40億美元左右，受新冠肺炎疫情的影響，2020年，全球光掩膜版市場規(guī)模有所縮減。全球市場中，光掩膜版市場參與者主要集中在美國、日本、韓國等國家中，其中市場占比較高的企業(yè)有日本東曹、HOYA、韓國LGMicron、DNP、信越化學(xué)、尼康、SKE等。

掩膜版行業(yè)分析

電子信息產(chǎn)業(yè)是我國國民經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性、先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè)，而掩膜版行業(yè)則是電子信息產(chǎn)業(yè)不可缺少的重要組成部分。從產(chǎn)業(yè)鏈來看，掩膜版產(chǎn)業(yè)位于電子信息產(chǎn)業(yè)的上游，其主導(dǎo)產(chǎn)品掩膜版是下游電子元器件制造商(平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控和電路板等行業(yè))生產(chǎn)制造過程中的核心模具，起到橋梁和紐帶的作用，電子元器件制造商的產(chǎn)品則廣泛應(yīng)用于消費電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域。因此，掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游電子元器件行業(yè)乃至終端電子消費品行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。下游行業(yè)市場規(guī)模的不斷增長也為本行業(yè)提供了更為廣闊的市場空間。

掩膜版發(fā)展前景分析

隨著消費者對顯示產(chǎn)品的要求逐步提高，手機(jī)、平板電腦等移動終端向著更高清、色彩度更飽和、更輕薄化發(fā)展。預(yù)計未來顯示屏的顯示精度將從450PPI(Pixel Per Inch，即每英寸像素)逐步提高到650PPI以上，對平板顯示掩膜版的半導(dǎo)體層、光刻分辨率、最小過孔、CD均勻性、套合精度、缺陷大小、潔凈度均提出了更高的技術(shù)要求。未來集成電路的制造工藝將進(jìn)一步精細(xì)化，朝5nm-3nm工藝發(fā)展，這對與之配套的掩膜版以及半導(dǎo)體芯片封裝用掩膜版提出了更高要求，線縫精度要求越來越高。

光掩膜版在可穿戴設(shè)備、平板顯示、汽車電子、家電等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，近年來，隨著下游市場需求不斷釋放，光掩膜版行業(yè)發(fā)展持續(xù)向好。我國光掩膜版行業(yè)起步較晚，高端產(chǎn)品產(chǎn)能不足，因此目前我國光掩膜版市場仍由外資企業(yè)占據(jù)主導(dǎo)，未來我國光掩膜版行業(yè)發(fā)展空間廣闊。

想要了解更多掩膜版行業(yè)的發(fā)展前景，請查閱《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》。

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