2024年光刻機行業現狀及重點企業分析

• 馮少杰 2024年4月2日 來源：中研網 1354 89
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近年來，光刻機市場呈現出穩步增長趨勢。受益于下游晶圓市場的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的快速發展，光刻機銷售額與銷量增速穩定提升。

光刻機是半導體芯片生產過程中的關鍵設備，主要用于將電路圖案從掩模上轉移到硅片上，實現芯片的功能。光刻機在半導體芯片制造中扮演著至關重要的角色，其技術水平和性能直接影響到芯片制造的精度和效率。

光刻機行業是一個高度技術密集和資本密集的行業，涉及精密機械、光學、電子、化學等多個領域。隨著集成電路制造工藝的逐步升級和先進微電子器件的不斷涌現，光刻技術也得到了迅猛發展。

近年來，光刻機市場呈現出穩步增長趨勢。受益于下游晶圓市場的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的快速發展，光刻機銷售額與銷量增速穩定提升。

光刻機行業現狀分析

在全球半導體設備行業迎來復蘇的大背景下，下游晶圓市場的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的蓬勃發展，共同推動了相關芯片需求的激增。自2020年以來，光刻機作為半導體制造過程中的關鍵設備，其銷售額與銷量增速均呈現出穩定提升的趨勢。

據中研普華研究院撰寫的《2024-2029年光刻機行業市場深度分析及發展規劃咨詢綜合研究報告》顯示，2022年全球光刻機銷量達到了510臺，這一數字充分反映了全球半導體產業對光刻機設備的旺盛需求。而隨著下游市場需求的持續升高，預計2023年全球光刻機市場仍將持續增長。據業內預測，今年全球光刻機銷量有望達到564臺，進一步彰顯出半導體行業的強勁發展勢頭。

圖表：2018-2023年全球光刻機銷量情況

光刻機作為半導體制造工藝中的核心設備，其技術水平和性能直接影響到芯片制造的精度和效率。隨著技術的不斷進步和市場需求的日益增長，光刻機設備也在不斷升級和優化，以滿足更高精度、更高效率的芯片制造需求。

此外，服務器云計算和5G基礎建設的快速發展，為光刻機市場提供了廣闊的應用空間。云計算和5G技術的普及，使得大數據處理、人工智能等應用得以快速發展，進而推動了芯片需求的不斷增長。這也為光刻機等半導體設備制造商提供了更多的發展機遇。

中國光刻機重點企業

1.上海微電子裝備有限公司

該公司自主研發的600系列光刻機，已成功實現90nm工藝的量產，并且在努力突破技術瓶頸，預計不久將交付第一臺28nm工藝的國產沉浸式光刻機。上海微電子裝備有限公司憑借其在光刻機領域的深厚積累和持續創新，為中國半導體產業的發展做出了重要貢獻。

2.北京華卓精科科技股份有限公司

華卓精科的雙臺系列光刻機主要應用于65nm及以下節點的ArF干式、浸沒式步進掃描光刻機等高端領域。公司憑借其在精密光學和精密機械領域的強大研發實力，不斷推動國產光刻機向更高精度、更高效率邁進。

3.北京科益虹源光電技術有限公司

科益虹源專注于光刻用激光器的研發和生產，其產品包括248nm準分子激光器、光刻用干式193nm準分子激光器和光刻用浸沒式193nm準分子激光器等。這些激光器是光刻機的核心部件，科益虹源的技術突破為國產光刻機的發展提供了有力支撐。

4.長春國科精密光學技術有限公司

國科精密光學致力于高端光刻機曝光光學系統、日盲紫外探測模組以及高端光學檢測產品的研發和生產。其產品在光刻機領域具有廣泛的應用，為提升國產光刻機的性能和質量發揮了重要作用。

5.北京國望光學科技有限公司

國望光學成功研發了我國首套90nm節點ArF投影光刻機曝光光學系統和110nm節點KrF光刻機曝光光學系統。這些系統的成功研制，標志著我國在高端光刻機曝光光學技術方面取得了重大突破。

6.浙江啟爾機電技術有限公司

啟爾機電專注于流體凈化、流體測量和流體控制技術的研發，特別是在光刻機浸液系統方面取得了顯著成果。其浸液系統的高精度和穩定性，為提升光刻機的工藝精度和可靠性提供了重要保障。

7.東方晶源微電子科技公司

東方晶源微電子科技公司專注于20納米以下極大規模半導體芯片制程的電子束圖像檢測裝備和綜合優化系統的研發與生產。其高速高精度的檢測系統為光刻機等關鍵工序提供了重要的質量保障，有力推動了中國半導體制造技術的進步。

更多光刻機行業深度分析，請點擊查看中研普華產業研究院發布的《2024-2029年光刻機行業市場深度分析及發展規劃咨詢綜合研究報告》。

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