電子束曝光系統市場調研 2022電子束曝光系統行業前景及現狀分析

• 2022年4月2日 LiuMingYue來源：百度百科 中研網 1395 92
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國內電子束曝光系統行業前景及現狀發展如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束曝光系統行業在性能和數量上均占優勢。據統計，2021年日本電子束曝光系統的產量約為791臺，電子束曝光系統行業增長了2.

國內電子束曝光系統行業前景及現狀發展如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束曝光系統行業在性能和數量上均占優勢。據統計，2021年日本電子束曝光系統的產量約為791臺，電子束曝光系統行業增長了2.06%;產值約為6.87億美元，較2020年增長了3.0%。最先進的激光制版系統，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。

電子束曝光系統市場調研 2022電子束曝光系統行業前景及現狀分析

隨著半導體制造工藝從10納米水平躍升到下一步7納米，會遇到諸如量子穿隧效應之類的挑戰。值得注意的例子是英偉達的GeForce 10系列，代號‘NVIDIA TITAN X’的圖形處理器的顯示核心，采用了全部120億個晶體管來處理數字邏輯。

而Itanium的大多數晶體管是用來構成其3千兩百萬字節的三級緩存。Intel Core i7處理器的芯片集成度達到了14億個晶體管。目前所采用的設計與早期不同的是它廣泛應用電子設計自動化工具，設計人員可以把大部分精力放在電路邏輯功能的硬件描述語言表達形式，而功能驗證、邏輯仿真、邏輯綜合、布局、布線、版圖等可以由計算機輔助完成。

電子束曝光系統行業使得圖案的曝光劑量會受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨近效應)，造成的結果是，顯影后，線寬有所變化或圖形畸變。雖然如此，限角度投影式電子束光刻仍是最具前景的非光學光刻。

電子束曝光系統產量及產值分析

據不完全統計，全球電子束曝光系統產能約為3564臺，產量約為3411臺，產能利用率約為95.71%。

近年來，中國電子束曝光系統的產量和產值都呈現出較快的增長態勢。中國電子束曝光系統的產量約為864臺，電子束曝光系統行業同比增長12.06%;產值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

圖表：中國電子束曝光系統產量及產值情況

數據來源：中研普華產業研究院

美國市場電子束曝光系統行業系統(EBL)產量、產值及增長率

據統計，美國電子束曝光系統的產量約為268臺，較2020年增長了5.10%;產值約為2.29億美元，較2020年增長了6.02%。

圖表：美國電子束曝光系統行業產量和產值情況

數據來源：中研普華產業研究院

歐洲市場電子束曝光系統行業(EBL)產量、產值及增長率

據統計，2021年歐洲電子束曝光系統的產量約為1364臺，電子束曝光系統市場增長了6.98%;產值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。

圖表：歐洲電子束曝光系統產量及產值情況

數據來源：中研普華產業研究院

電子束曝光系統行業研究咨詢報告由中研普華咨詢公司領銜撰寫，對中國及各子電子束曝光系統行業的發展狀況、上下游行業發展狀況、競爭替代產品、電子束曝光系統行業發展趨勢、新產品與技術等進行了分析，并重點分析了中國行業發展狀況和特點，以及中國行業將面臨的挑戰、企業的發展策略等。電子束曝光系統行業報告還對全球的行業發展態勢作了詳細分析。

更多電子束曝光系統市場調研及行業消息,可以點擊查看中研普華產業研究院的《2022年全球與中國電子束曝光系統(EBL)市場深度研究報告》。

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