在政策的推動和研發的進步下,我國刻蝕機行業涌現出了一批優秀的領先企業。但我國企業在刻蝕機制造方面距離世界頭部企業仍有一定的距離,刻蝕機研發進度仍待加快。
刻蝕機發展現狀、刻蝕機市場需求如何?隨著5G、大數據、物聯網、人工智能等新興產業的發展,半導體器件的需求將持續攀升。半導體設備作為推升半導體器件制造的基石,有望迎來新一輪發展機遇;而作為半導體設備的重要組成部分,刻蝕機的需求也將水漲船高。
刻蝕是通過移除晶圓表面材料,在晶圓上根據光刻圖案進行微觀雕刻,將圖形轉移到晶圓表面的工藝。刻蝕分為濕法刻蝕和干法刻蝕,濕法刻蝕是利用化學溶液溶解晶圓表面的材料,干法刻蝕使用氣態化學刻蝕劑與材料產生反應來刻蝕材料并形成可以從襯底上移除的揮發性副產品。
刻蝕機是芯片制造過程中的核心設備之一,刻蝕是利用化學或者物理的方法將晶圓表面附著的不必要的材質進行去除的過程。在刻蝕機中,閃電、極光也都是等離子體會轟擊在晶圓表面,將原子直接打出,或發生化學反應與晶圓上的材料形成新的化合物揮發,實現刻蝕。
刻蝕機產業鏈中,上游為刻蝕機的四大組成部分,主要包括預真空室、刻蝕腔體、供氣系統及真空系統;中游為刻蝕機的制造,刻蝕技術主要有兩種,傳統濕法刻蝕技術及現代干法刻蝕技術;下游為刻蝕機的應用,主要用來制造半導體器件、太陽能電池及其他微機械制造。
據中研產業研究院公布《2021-2026年中國刻蝕機市場深度全景調研及投資前景分析報告》顯示
全球刻蝕設備行業的主要企業即泛林半導體,東京電子和應用材料三家。從全球刻蝕設備市場份額來看,三家企業的合計市場份額就占到了全球刻蝕設備市場的90%以上。其中泛林半導體獨占52%的市場份額,東京電子與應用材料分別占據20%和19%的市場份額。
國內的刻蝕設備企業主要有中微公司、北方華創、屹唐半導體和中電科。其中,中微公司、北方華創和屹唐半導體均以生產干法刻蝕設備為主,中電科除了生產干法刻蝕設備以外還生產濕法刻蝕設備。除上述企業外,國內還有創世微納、芯源微和華林科納等企業生產刻蝕設備。
近年來,隨著國內晶圓廠制程工藝的進步,多重曝光工藝逐步得到應用,對刻蝕設備的需求潛力增大,帶動了我國刻蝕設備行業的發展。根據Gartner數據,2020年全球刻蝕設備市場規模123.3億美元,預計到2024年市場規模151.8億美元,2019-2024年年均復合增長率為7%。
在政策的推動和研發的進步下,我國刻蝕機行業涌現出了一批優秀的領先企業。但我國企業在刻蝕機制造方面距離世界頭部企業仍有一定的距離,刻蝕機研發進度仍待加快。
刻蝕機行業研究報告旨在從國家經濟和產業發展的戰略入手,分析刻蝕機未來的政策走向和監管體制的發展趨勢,挖掘刻蝕機行業的市場潛力,基于重點細分市場領域的深度研究,提供對產業規模、產業結構、區域結構、市場競爭、產業盈利水平等多個角度市場變化的生動描繪,清晰發展方向。
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2021-2026年中國刻蝕機市場深度全景調研及投資前景分析報告
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