光刻機產業深度調研 國產光刻機市場現狀如何？

• 2022年9月30日 HuangWenYu來源：百度百科 LaserFocusWorld 國家統計局 WSTS 688 40
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光刻機(lithography)又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

光刻機的概念

光刻機(lithography)又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在3 千萬至5億美元。

根據中研普華產業研究院發布的《2022-2027年光刻機產業深度調研及未來發展現狀趨勢預測報告》顯示：

中國的光刻機產業鏈發展得如此緩慢，在于早期中國考慮到先進技術可以通過在海外購買的方式實現，因此導致國產的光刻機即使生產出來也沒有廠商愿意使用，畢竟國產光刻機在技術方面不如海外企業。直到近幾年，國產光刻機得到重視。

光刻機行業市場現狀分析

隨著半導體和信息通訊等產業穩步擴張，全球光刻機銷量呈現穩步增長態勢，2021年top3企業銷量達478臺，同比2020年增長65臺。整體來看，集成電路、面板和LED光刻機整體出貨約650臺，其中集成電路約500臺左右。

光刻機市場由三個品牌壟斷，ASML、尼康(Nikon)、佳能(Canon)市場占有率超過90%，是典型的寡頭壟斷市場，而ASML更是壟斷最高端的極紫外(EUV)光刻機市場。從全球光刻機市場份額來看，2020年ASML、Nikon和Canon分別占據全球光刻機市場84%、7%、5%，合計市場份額約96%。

從政策環境上來看，我國對于光刻機行業較為重視。其主要表現在對于整個IC產業鏈企業的政策優待以及對于半導體設備行業的相關規劃與推動。其主要表現在資金方面的補助和人才方面的培養，以及進出口，投融資方面的政策扶持。

EUV作為唯一能夠制備7nm及以下工藝的光刻機，采用EUV光源，使用的光波波長只有13.5nm， NA (數值孔徑)為0.33， 目前全球只有ASML能生產EUV光刻機。

2020年中國集成電路累計產量達到了2614.2億塊，同比增長29.53%。2021年中國集成電路累計產量達到了3594億塊，同比增長37.48%。中國已成為全球規模最大、增速最快的集成電路市場。

光刻機的下游市場，數據顯示，2021年全球半導體市場規模達5559，同比2020年增長26.2%。中國集成電路銷售額超萬億元，達10458.3億元，同比2020年增長18.2%。

國產產業鏈在光刻機方面的進展，讓中國正成為全球最具潛力的光刻機生產國，這方面是ASML所在的荷蘭和尼康所在的日本都無法達到的，產業鏈已成為中國光刻機的核心競爭優勢。

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