光刻膠供應(yīng)鏈安全性大幅提升 國產(chǎn)替代良機(jī) 光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告

• 李波 2023年3月9日 來源：中研普華集團(tuán)、央視財經(jīng)、中研網(wǎng) 1100 70
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近期，容大感光在機(jī)構(gòu)調(diào)研時表示，其干膜光刻膠、顯示用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品已經(jīng)面向市場實現(xiàn)了批量銷售，其中部分產(chǎn)品已進(jìn)入核心客戶的供應(yīng)鏈體系，干膜光刻膠、顯示用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品的銷售將會是公司未來業(yè)績發(fā)展的驅(qū)動點，未來隨著募投項目產(chǎn)能的

近期，容大感光在機(jī)構(gòu)調(diào)研時表示，其干膜光刻膠、顯示用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品已經(jīng)面向市場實現(xiàn)了批量銷售，其中部分產(chǎn)品已進(jìn)入核心客戶的供應(yīng)鏈體系，干膜光刻膠、顯示用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等產(chǎn)品的銷售將會是公司未來業(yè)績發(fā)展的驅(qū)動點，未來隨著募投項目產(chǎn)能的逐步釋放，公司將迎來新的發(fā)展階段。

對于投資者問及的“如果發(fā)生斷供”等問題，彤程新材則在互動平臺上表示，截止目前尚未出現(xiàn)斷供情況。我司也努力研發(fā)上游光刻膠材料，部分光刻膠所用樹脂材料目前已具備自主供應(yīng)能力。相關(guān)樹脂品類還在研發(fā)和推進(jìn)中。

東方財富研報表示，日美企業(yè)廠商占據(jù)國內(nèi)高端光刻膠市場大部分份額，其中G/I線國產(chǎn)化率10%，高端KrF、ArF國產(chǎn)化率不足5%。

因此材料端自主可控成為國際大趨勢，光刻膠下游客戶對供應(yīng)鏈安全性的關(guān)注度大幅提升，將主動或被動的快速導(dǎo)入國產(chǎn)光刻膠，國內(nèi)企業(yè)迎來高端光刻膠國產(chǎn)替代良機(jī)。

光刻膠，又稱為光致抗蝕劑，是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，通過曝光其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。

光刻膠是PCB、LCD和半導(dǎo)體等各應(yīng)用行業(yè)的上游材料，一般相同用途的光刻 膠，由于投資大、市場比下游應(yīng)用行業(yè)小，行業(yè)集中度非常高，只能有幾家企業(yè)生存。光刻膠專用化學(xué)品具有相似特征，即品種多、用量小、品質(zhì)要求高，投資相對普通化學(xué)品大，行業(yè)集中度高。

光刻膠主要是由光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體。

樹脂和光引發(fā)劑是光刻膠最核心的部分，樹脂對整個光刻膠起到支撐作用，使光刻膠具有耐刻蝕性能;光引發(fā)劑是光刻膠材料中的光敏成分，能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。

生產(chǎn)光刻膠的原料主要是光刻膠樹脂、光敏材料、溶劑及添加劑等。光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)較多，覆蓋面也較廣，原材料質(zhì)量及配方比例是決定光刻膠產(chǎn)品品質(zhì)的重要因素。

除技術(shù)壁壘外，光刻膠行業(yè)還存在客戶壁壘、原料壁壘。光刻膠行業(yè)進(jìn)入門檻高，市場高度集中，CR4約70%。

2023光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈可以分為上游原材料，中游制造和下游應(yīng)用三個環(huán)節(jié)。上游包括感光樹脂、單體、光引發(fā)劑及添加助劑等原材料，中游包括 PCB 光刻膠、面板光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠的制備，下游是各種光刻膠的應(yīng)用。

我國光刻膠企業(yè)使用的樹脂90%以上依賴進(jìn)口，供應(yīng)商以日本和美國廠商為主。全球光刻膠樹脂主要由住友電木、日本曹達(dá)及美國陶氏等化工大廠供應(yīng)，國內(nèi)運(yùn)用于光刻膠領(lǐng)域樹脂幾乎全部需要進(jìn)口。

美日韓企業(yè)占據(jù)了全球88%的光刻膠市場份額，中國大陸光刻膠企業(yè)主要包括南大光電、晶瑞電材、彤程新材、上海新陽等。由于我國半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)起步較晚，目前的市占率較低。

光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。

光刻膠的應(yīng)用范圍主要有PCB板，LCD，LED和半導(dǎo)體，前面三種技術(shù)要求相對較低，但我國企業(yè)仍然沒有實現(xiàn)完全自給。而半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場高度集中，幾乎被日美企業(yè)壟斷，生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學(xué)工業(yè)、日本TOK、陶氏化學(xué)等。

我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā)，目前整體還處于起步階段，工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有很大的差距，尖端材料及設(shè)備仍依賴進(jìn)口。

例如，京東方目前已建立17個面板顯示生產(chǎn)基地，其中有16個已經(jīng)投產(chǎn)，但京東方用于高端面板的光刻膠仍然由國外企業(yè)提供。目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等，中國公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。

據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報告《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告》分析

眾所周知光刻膠是晶圓制造重要材料，行業(yè)壁壘高，國產(chǎn)化替代的難度較高，而我國光刻膠產(chǎn)品以中低端為主，日美企業(yè)廠商占據(jù)國內(nèi)高端光刻膠市場大部分份額，一旦斷供，國內(nèi)多家晶圓廠或?qū)⒚媾R光刻膠缺貨風(fēng)險，亟需國產(chǎn)替代。

目前半導(dǎo)體材料環(huán)節(jié)的整體國產(chǎn)化率在20-30%左右，光刻膠、掩膜版等國產(chǎn)化率最低。但國內(nèi)部分企業(yè)積極投入研發(fā)，且已有所突破，國內(nèi)企業(yè)迎來高端光刻膠國產(chǎn)替代良機(jī)。

從競爭情況看，全球光刻膠市場主要被日美企業(yè)壟斷，其中日本企業(yè)基于政策扶持力度加大實現(xiàn)上下游協(xié)同發(fā)展，從而牢牢占據(jù)龍頭地位。

未來趨勢

隨著汽車、人工智能、國防等電子技術(shù)的進(jìn)步，預(yù)計2020-2026年光刻膠CARG將達(dá)5.5%，到2026年將超過120億美元。

在一個供大于求的需求經(jīng)濟(jì)時代，企業(yè)成功的關(guān)鍵就在于，是否能夠在需求尚未形成之時就牢牢地鎖定并捕捉到它。那些成功的公司往往都會傾盡畢生的精力及資源搜尋產(chǎn)業(yè)的當(dāng)前需求、潛在需求以及新的需求!

隨著光刻膠行業(yè)競爭的不斷加劇，國內(nèi)優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)愈來愈重視對市場的研究，特別是對企業(yè)發(fā)展環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究。正因為如此，一大批國內(nèi)優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)迅速崛起，逐漸成為行業(yè)中的翹楚!

欲了解更多關(guān)于光刻膠行業(yè)的市場數(shù)據(jù)及未來行業(yè)投資前景，可以點擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報告《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告》。

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  2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告

  光刻膠行業(yè)研究報告主要分析了光刻膠行業(yè)的市場規(guī)模、光刻膠市場供需求狀況、光刻膠市場競爭狀況和光刻膠主要企業(yè)經(jīng)營情況、光刻膠市場主要企業(yè)的市場占有率，同時對光刻膠行業(yè)的未來發(fā)展做出科...

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