2023電子束曝光系統行業發展分析及前景研究

• 吳亞楠 2023年9月22日 來源：互聯網 313 13
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電子束曝光系統(EBL)行業競爭的不斷加劇，大型企業間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優秀的電子束曝光系統(EBL)企業愈來愈重視對行業市場的分析研究，特別是對當前市場環境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發優勢。

電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。

電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。電子束曝光系統(electron beam lithography system)即用于實現電子束曝光的系統。電子束曝光在半導體工業中被廣泛使用于研究下一代超大規模集成電路。

基于改進掃描電鏡的電子束曝光系統由于SEM的工作方式與電子束曝光機十分相近,最初的電子束曝光機是從SEM基礎上改裝發展起來的，近年來隨著計算機技術的飛速發展，將SEM改裝為曝光機的工作取得了重要進展。主要改裝工作是設計一個圖形發生器和數模轉換電路，并配備一臺PC機。PC機通過圖形發生器和數模轉換電器去驅動SEM的掃描線圈，從而使電子束偏轉。

同時通過圖形發生器控制束閘的通斷，最終在工件上描繪出所要求的圖形。通常采用矢量掃描方式描繪圖形，即在掃描場內以矢量方式移動電子束，在單元圖形內以光柵掃描填充。對SEM進行改裝時，應考慮SEM偏轉系統的帶寬以及工作臺移動精度等對曝光圖形誤差和圖形畸變的影響。高檔SEM改裝系統的功能接近于專用電子束曝光機，但由于受到視場小、速度低及自動化程度低等限制，在生產率上不可能與專用電子束曝光系統相比。

根據中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國電子束曝光系統(EBL)行業發展前景及投資風險預測分析報告》顯示：

電子束曝光系統行業發展分析及前景研究

電子束曝光按掃描方式，成形電子束曝光系統又可分為矢量掃描型和光柵掃描型。掃描式電子束曝光系統可以得到極高的分辨率，但其生產率較低，不能滿足大規模生產的需要。成形束系統生產率固然有所提高，但其分辨率一般在0.2μm左右，難以制作納米級圖形。近年來研發的投影電子束來曝光系統，既能使曝光分辨率達到納米量級，又能大大提高生產率，且不需要鄰近效應校正。在研制中的投影式電子束曝光系統主要有兩種。

電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。

電子束裝備主要由束流產生裝置、束流加速裝置、束流引出裝置、輻射場形成裝置、控制裝置等構成。按照加速原理來劃分，電子束設備輻照裝置可以分為直流高壓型、高頻諧振型兩大類;按照能量來劃分，電子束設備輻照裝置可以分為低能型、中能型、高能型等。

隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束設備在性能和數量上均占優勢。最先進的激光制版系統，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。

電子束曝光系統(EBL)行業競爭的不斷加劇，大型企業間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優秀的電子束曝光系統(EBL)企業愈來愈重視對行業市場的分析研究，特別是對當前市場環境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發優勢。正因為如此，一大批優秀品牌迅速崛起，逐漸成為行業中的翹楚。中研普華利用多種獨創的信息處理技術，對電子束曝光系統(EBL)行業市場海量的數據進行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務，最大限度地降低客戶投資風險與經營成本，把握投資機遇，提高企業競爭力。

根據曝光圖形的精度要求可以調整矩形束斑的尺寸，由于該系統是固定束斑，電子束曝光的數據處理比較簡單:如果將第2光瀾置換成固定尺寸和形狀的鏤空掩模，即可形成定形束投影電子束光刻系統。

電子束曝光系市場格局

全球電子束曝光系(Electron Beam Lithography System，EBL)主要廠商有Raith、ADVANTEST、JEOL、Elionix、Crestec等，全球前三大廠商共占有大約70%的市場份額。中國是全球最大的電子束曝光系統市場，占有大約22%的市場份額，之后是北美和歐洲市場，二者各占有大約20%的份額。

在激烈的市場競爭中，企業及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關鍵。電子束曝光系統行業報告對中國電子束曝光系統行業的發展現狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析，并從行業的政策環境、經濟環境、社會環境及技術環境等方面分析行業面臨的機遇及挑戰。還重點分析了重點企業的經營現狀及發展格局，并對未來幾年行業的發展趨向進行了專業的預判。

本報告同時揭示了電子束曝光系統市場潛在需求與潛在機會，為戰略投資者選擇恰當的投資時機和公司領導層做戰略規劃提供準確的市場情報信息及科學的決策依據，同時對政府部門也具有極大的參考價值。同時包含大量的數據、深入分析、專業方法和價值洞察，可以幫助您更好地了解行業的趨勢、風險和機遇。

想了解關于更多電子束曝光系統行業專業分析，可點擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國電子束曝光系統(EBL)行業發展前景及投資風險預測分析報告》。

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