高純氧氣可在半導體蝕刻工藝中產生氧化物層，高純氮氣可用于真空泵及排放系統的吹掃等。
氣體是半導體制造的一個重要組成部分，因為氣體可以產生塑造半導體電氣特性所需的化學反應。半導體行業在全球范圍內是一個巨大的產業，并且每年都在持續增長，這意味著對高純氣體的需求也將隨之增長。高純氧氣可在半導體蝕刻工藝中產生氧化物層，高純氮氣可用于真空泵及排放系統的吹掃等。
根據中研普華研究院撰寫的《2023-2028年全球與中國高純氣體行業市場調研及發展趨勢分析報告》顯示：
高純氣體市場調研 2023高純氣體行業發展現狀前景分析
隨著燃料電池產業的發展，氫能將擁有廣闊的市場空間。濰坊高純大宗項目主要涉及常用大宗氣體，包括高純氧氣、氮氣、氬氣等，大宗氣體的市場空間大于特種氣體，可應用于機械加工、鋼鐵冶煉等傳統工業，同時在電子及半導體這一高速成長領域也具備較大市場需求。
隨著半導體行業的不斷發展和演變，在這個過程中使用的氣體也在不斷增加。使用的一些核心氣體包括氮氣、氧氣、氬氣和氫氣，我們將深入解釋它們在制造過程中的作用。
氧氣是一種氧化劑，這使得它對創造沉積反應至關重要。它被用來生長氧化硅層，用于工藝中的各種元素，例如擴散掩膜。當在半導體制造中使用氧氣時，氣體必須是超高純度的，以防止任何雜質，這些雜質可能會對設備生產和性能造成損害。
氬氣主要用于紫外光刻激光器的沉積和蝕刻過程，這些激光器被用來在半導體芯片上制作最小的圖案。在制造所需的硅片期間，氬氣被用來保護在硅片上形成的硅晶體，使其在高溫下生長過程中不會與氧氣和氮氣發生任何潛在的反應。
由于需求增加，氫氣在半導體制造中的使用可能會增加。特別是在光刻階段，氫氣被用來與化學品錫反應，以產生氫化錫。需要氫化錫，以便它不會積聚在昂貴的光學器件上。氫氣被用來創造一個新的氧化層，以修改已經存在的薄膜。這一過程是在高壓和高溫環境下進行的，這意味著對流速、溫度和壓力的控制極為重要。此外，氫氣也被用于摻雜階段，以幫助控制分解，因為用于這一過程的氣體是非常有毒的。以至于它們需要被儲存在能夠防止泄漏的設備中。
由于我國工業氣體起步時間較晚、第三方氣體供應商較為分散等原因，部分地區下游廠商的氣體需求仍無法得到充分滿足。本次募投項目可緩解下游高端制造產業的電子氣體需求。
氣體行業屬于朝陽行業，屬于百年興旺的行業，氣體市場前景廣闊，發展空間巨大，氣體行業已誕生出上萬億元市值的氣體公司。
濰坊高純大宗項目所處園區的企業有大量氧氣、氮氣、氬氣等高純度大宗氣體的需求，除了濰坊當地少數已有的氣體公司生產供應外，仍有較大供給缺口。本次濰坊高純大宗項目投產后，公司將有效緩解項目周邊地區氣體短缺的局面。
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吳亞楠
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