中國科學院光刻技術取得進展 2021中國芯片制造產業國產替代趨勢分析

• 2021年6月11日 HuangJiang來源：新浪 480 25
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芯片制造的過程中，光刻機是最關鍵的設備之一，也是攻克難度最高的設備。長期以來，荷蘭ASML憑借著在光刻機行業的壟斷地位，掐住了全球芯片制造業的脖子。光刻是極大規模集成電路制造的關鍵技術之一，光刻分辨率決定集成電路的特征尺寸。隨著集成電路圖形的特征尺寸不斷

中國科學院光刻技術取得進展

國產光刻機技術最新進展!近日，中國科學院上海光學精密機械研究所信息光學與光電技術實驗室提出一種基于虛擬邊(Virtual Edge)與雙采樣率像素化掩模圖形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光學鄰近效應修正技術(Optical proximity correction， OPC)，仿真結果表明該技術具有較高的修正效率。

光刻是極大規模集成電路制造的關鍵技術之一，光刻分辨率決定集成電路的特征尺寸。隨著集成電路圖形的特征尺寸不斷減小，光刻系統的衍射受限屬性導致明顯的光學鄰近效應，降低了光刻成像質量。在光刻機軟硬件不變的情況下，采用數學模型和軟件算法對照明模式、掩模圖形與工藝參數等進行優化，可有效提高光刻分辨率、增大工藝窗口，此類技術即計算光刻技術(Computational Lithography)。該技術被認為是推動集成電路芯片按照摩爾定律繼續發展的新動力。

OPC技術通過調整掩模圖形的透過率分布修正光學鄰近效應，從而提高成像質量。基于模型的OPC技術是實現90nm及以下技術節點集成電路制造的關鍵計算光刻技術之一。

中國芯片制造產業規模現狀

芯片制造的過程中，光刻機是最關鍵的設備之一，也是攻克難度最高的設備。長期以來，荷蘭ASML憑借著在光刻機行業的壟斷地位，掐住了全球芯片制造業的脖子。數據顯示，在2019年全球光刻機市場中，ASML獨占74%的市場。在EUV光刻機市場中，ASML更是實現了100%的壟斷。

我國是全球規模最大、增速最快的集成電路市場，2020年產業規模達到8848億元，“十三五”期間年均增速為全球同期增速的4倍。在5G、云計算、物聯網等新型應用的驅動下，中國集成電路市場需求仍將持續增長。記者注意到，當前從部委到地方正在集政策合力破解“缺芯”難題，在引導創新要素投向核心技術攻關，支持內外資企業投資，推進產業鏈各環節的開放合作等方面拿出更多舉措，力破制約集成電路產業發展的瓶頸。

中國集成電路市場需求將持續增長

當前芯片短缺問題正在困擾全球多個產業。除汽車以外，手機、消費電子等多個領域均受到波及。業內指出，需求旺盛、產能不足以及供應鏈管理不足等多重因素疊加造成了芯片短缺的困境。SEMI全球副總裁、中國區總裁居龍表示，全球缺芯、價格上漲是超級周期的結果，也加速了全球產業鏈的布局重整，中國是全球最大的集成電路市場，受“缺芯”影響很大，需要有良好的應對策略。

工信部電子信息司司長喬躍山在會上表示，2020年，我國集成電路產業規模達到8848億元，“十三五”期間年均增速近20%，為全球同期增速的4倍。未來在中國經濟穩健增長的態勢下，在5G、云計算、物聯網、人工智能、智能網聯汽車等新型應用的驅動下，中國集成電路市場需求仍將持續增長。

針對集成電路供需不平衡、供應鏈不穩定等問題，記者注意到，多個部門圍繞創新鏈、產業鏈、人才鏈協同發力，密集出臺支持舉措。工信部新聞發言人、運行監測協調局局長黃利斌日前在國新辦發布會上表示，將與相關國家和地區加強合作，鼓勵內外資企業加大投資力度，推動提升芯片全產業鏈的供給能力，積極搭建產用對接合作平臺，創造良好應用環境，供需雙向發力保障芯片產品供給，滿足市場的需求。科技部日前明確，將主要聚焦集成電路、軟件、高端芯片、新一代半導體技術等領域的一些關鍵核心技術和前沿基礎研究，利用國家重點研發計劃等給予支持。國家發改委、教育部、人社部印發《“十四五”時期教育強國推進工程實施方案》也提出，重點支持集成電路、量子科技等相關學科專業教學和科研設施建設。

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