三星與東進半導體開發EUV光刻膠 全球光刻膠產業的前景與未來發展

• 2021年12月20日 HuangJiang來源：新浪 1422 94
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現在三星與韓國半導體廠商東進合作開發成功EUV光刻膠，已經通過驗證。東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

三星與東進半導體開發EUV光刻膠

EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現在三星與韓國半導體廠商東進合作開發成功EUV光刻膠，已經通過驗證。東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料.它應用于芯片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發生化學反應并改變物理性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，只留下必要的部分。

2019年，日本與韓國爆發爭議之后曾經限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發。

根據中研產業研究院《2021-2026年光刻膠市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》：

光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。

光刻膠有三大應用領域，按照應用領域可分為PCB(印制電路板)光刻膠、LCD(液晶顯示屏)光刻膠和半導體光刻膠。

光刻膠看似普通，其實技術門檻是極高的。全球光刻膠被美日壟斷，我國光刻膠嚴重依賴進口。

技術門檻越高，國產替代越難。技術門檻較低的PCB光刻膠國產化程度是最高的，國產化程度為50%。而技術門檻高一些的LCD刻膠和半導體光刻膠的國產化程度分別為10%和5%。

越是技術高端的光刻膠，對于生產原料的純度、雜質、金屬離子含量等要求也非常嚴苛。所以光刻膠光引發劑的國產化程度也因應用領域而異。

近年來各類終端應用加持OLED技術的趨勢下，各家的OLED面板產能稼動率也在不斷提升，根據CINNO Research統計數據顯示，國內OLED面板廠10月平均稼動率為64.9%，相比9月增長6.2個百分點。近來有消息稱，2022年京東方向蘋果iPhone供OLED屏數量將是2021年三倍的傳聞，達到4000-5000萬支OLED面板，在iPhone OLED供應中占比將會提升到20%。

中國大陸顯示產業的迅猛發展，必然會讓其上游原材料需求也會迅速加大。根據CINNO Research預測，2021年中國大陸整體面板用光刻膠需求量在4.8萬噸，同比增長將達約16%。目前中國大陸市場九成以上的光刻膠用量仍為液晶面板生產所需，隨著OLED產能規模的擴增，預計至2025年OLED光刻膠用量比重將增至約20%。

伴隨著5G、AI與全球物聯網的推進，各類芯片用量不斷攀升，全球多個主要晶圓制造基地積極擴充產能。除了顯示產業蓬勃發展外，中國大陸也正在與全球同步加速晶圓產能的擴建。

目前來看，中國大陸的晶圓產能與全球差距仍然比較大，不過近年中國大陸在積極投建新的晶圓廠，進行產能方面的擴充。根據CINNO Research統計數據顯示，中國大陸在全球晶圓產能中占比約16%，與日本地區產能相當，略高于美國地區的3%。

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