目前光刻膠領域國產替代趨勢正愈演愈烈，除了下游廠商從供應鏈安全角度扶持國產光刻膠以及國家政策支持等因素外，還有國內外晶圓廠擴產潮帶來的需求爆發和認證窗口期。
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體，光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩(掩模版)轉移到待加工基片上。
據中研產業研究院報告《2021-2026年光刻膠市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》分析
2021年全球晶圓制造材料市場中半導體光刻膠及其配套試劑的總體市場規模占比將達到12.9%，僅次于硅片與電子特氣位列第三。預計2021年全球半導體光刻膠市場規模將達到19.8億美元。預計2022年全球光刻膠市場規模有望達到105億美元，年均復合增速5%。
伴隨著國內晶圓代工產能的不斷提升，2025年國內半導體光刻膠市場規模有望達到100億元，2020-2025年間半導體光刻膠的市場規模復合增速將達到35%，明顯高于全球半導體光刻膠市場規模的增速。
半導體光刻膠屬于光刻膠高端產品，受技術限制，當前，我國半導體光刻膠需求主要由外資企業來滿足，2020年，外資企業的市場份額達71%。從不同光刻膠產品的自給率來看，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠的自給率約為20%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，而適用于12寸硅片的ArF光刻膠基本依靠進口，光刻膠國產化任重道遠。
原料是光刻膠產業的重要環節，原料的品質也決定了光刻膠產品品質，主要原料包括樹脂、光引發劑、溶劑和單體等。我國對光刻膠及專用化學品的研究起步較晚，但國家層面非常重視，從“六五計劃”至今都一直將光刻膠列為國家高新技術計劃、國家重大科技項目。盡管取得了一定成果，但技術水平仍與國際水平相差較大，作為原料的主要專用化學品仍然需要依賴進口。
國內光引發劑生產企業經過十多年激烈的市場競爭，集中趨勢日益明顯，我國光引發劑生產領先企業有久日新材、揚帆新材、強力新材、固潤科技、雙鍵化工等，其中久日新材是全國產量最大、品種最齊全的光引發劑生產供應商，光引發劑業務市場占有率約30%。
目前光刻膠領域國產替代趨勢正愈演愈烈，除了下游廠商從供應鏈安全角度扶持國產光刻膠以及國家政策支持等因素外，還有國內外晶圓廠擴產潮帶來的需求爆發和認證窗口期。再加之全球光刻膠巨頭信越化學受地震影響而減產，斷供了部分中小晶圓廠，進一步加劇了半導體光刻膠產品短缺，也為國內光刻膠企業提供了寶貴的替代窗口期。
想要了解更多光刻膠行業的發展前景，請查閱《2021-2026年光刻膠市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》。
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