2024光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀及競爭狀況分析：國內(nèi)市場替代空間廣闊

• 吳澳燕 2024年4月3日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 380 18
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光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時(shí)間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。

光刻技術(shù)是指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將圖形傳遞到介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或者功能圖形的工藝技術(shù)，是光電信息產(chǎn)業(yè)鏈中的核心環(huán)節(jié)之一。

在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。

光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時(shí)間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。

我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā)，目前整體還處于起步階段，工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有很大的差距，尖端材料及設(shè)備仍依賴進(jìn)口。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測報(bào)告》顯示：

光刻膠所在的產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍非常廣泛，從上游基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細(xì)化學(xué)品行業(yè)到中游光刻膠制備，到下游PCB、面板、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，再到電子等應(yīng)用終端。

光刻膠按下游應(yīng)用領(lǐng)域可分為PCB、LCD/OLED面板和半導(dǎo)體光刻膠，與光刻膠配套試劑一起在光刻工藝中作為耗材。

半導(dǎo)體光刻膠壁壘最高，市場增速高于整體光刻膠市場增速。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模為26.4億美元，同比增長6.82%;大陸半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模為5.93億美元，同比增長20.47%，增速遠(yuǎn)高于全球半導(dǎo)體光刻膠市場。

2024光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀及競爭狀況分析

光刻膠生產(chǎn)需要大量的原材料，如樹脂、感光劑、溶劑等。這些原材料供應(yīng)商是光刻膠企業(yè)的上游供應(yīng)商，對光刻膠企業(yè)的生產(chǎn)成本和產(chǎn)品質(zhì)量具有重要影響。

作為光刻工藝的核心材料，光刻膠幫助將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底表面，其分辨率直接決定了特征尺寸的大小，其質(zhì)量和性能直接影響制造產(chǎn)線的良率，高壁壘和高價(jià)值量是典型特征。當(dāng)前，全球光刻膠供給高度集中，海外龍頭已實(shí)現(xiàn)高端制程量產(chǎn)。目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等，中國公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。

由于我國光刻膠起步較晚，目前以中低端產(chǎn)品為主，高端領(lǐng)域正在逐步突破過程中，國產(chǎn)替代正在持續(xù)進(jìn)行。目前我國光刻膠行業(yè)需求量大于產(chǎn)量，中高端產(chǎn)品進(jìn)口需求迫切。數(shù)據(jù)顯示，2022年我國光刻膠行業(yè)產(chǎn)需量分別為3.8/8.4萬噸，分別同比增長5.8%、6.8%。產(chǎn)品價(jià)格方面，近年來國內(nèi)光刻膠市場均價(jià)保持小幅提升，2022年國內(nèi)光刻膠市場價(jià)格達(dá)到22.78萬元/噸。

我國電子產(chǎn)業(yè)的四大主要產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)分別為珠江三角洲、長江三角洲、環(huán)渤海地區(qū)以及福建沿海地區(qū)。由于下游電子產(chǎn)業(yè)的區(qū)域分布特性，國內(nèi)光刻膠市場主要集中在長江三角洲和珠江三角洲等區(qū)域。這些地區(qū)不僅擁有全國規(guī)模最大的光刻膠產(chǎn)業(yè)集群，而且其產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展也最為完善，為整個(gè)電子產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展提供了有力支撐。

隨著微電子產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對光刻膠的性能和品質(zhì)提出了更高的要求，光刻膠企業(yè)需要加強(qiáng)技術(shù)研發(fā)，提高技術(shù)水平。受益于國家紅利政策的扶持，中國本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，推進(jìn)光刻膠國產(chǎn)化的進(jìn)程。未來，中國有望突破高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)壁壘，帶動(dòng)中國光刻膠產(chǎn)量進(jìn)一步提升。

在激烈的市場競爭中，企業(yè)及投資者能否做出適時(shí)有效的市場決策是制勝的關(guān)鍵。報(bào)告準(zhǔn)確把握行業(yè)未被滿足的市場需求和趨勢，有效規(guī)避行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)，更有效率地鞏固或者拓展相應(yīng)的戰(zhàn)略性目標(biāo)市場，牢牢把握行業(yè)競爭的主動(dòng)權(quán)。

更多行業(yè)詳情請點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測報(bào)告》。

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  2023-2028年中國光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測報(bào)告

  光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時(shí)間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇...

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