光刻膠行業市場前景如何?光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一,在大規模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現選擇性刻蝕的關鍵材料。
光刻膠行業市場前景如何?光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一,在大規模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現選擇性刻蝕的關鍵材料。
目前半導體光刻膠最常使用曝光波長分類,主要有g線、i線、KrF、ArF和最先進的EUV光刻膠。越先進制程相應需要使用越短曝光波長光刻膠,以達到特征尺寸微小化。
1月4日,湖北省武漢市人民政府辦公廳發布《關于促進半導體產業創新發展的意見》(以下簡稱“《意見》”)。《意見》明確了多項重點任務,包括瞄準薄弱環節補鏈、立足現有基礎強鏈、聚焦熱點領域延鏈、以及圍繞前沿領域建鏈等。
在材料環節,圍繞先進存儲器工藝,開發拋光墊、光刻膠、電子化學品和鍵合材料,布局化學氣相沉積材料、濺射靶材、掩膜版、大硅片等材料項目;
在封測環節,引進和培育國內外封裝測試領軍企業,突破先進存儲器封裝工藝,推進多芯片模塊、芯片級封裝、系統級封裝等先進封裝技術產業化。
截至目前為止,韓國半導體光刻膠的供應已進入緊急狀態,庫存量降低到了3個月安全線以下。針對光刻膠的供應瓶頸,現階段主要是應用于成熟制程的產品,其中包括從I-line 到KrF光刻膠等。報道稱,一些韓國晶圓代工廠的光刻膠庫存已減少到只剩兩個月的供應量。
根據過往經驗,通常低于3個月庫存供應,廠商方面就要開始啟動緊急應變計劃。因為光刻膠的供應危機如果再持續下去,可能將會出現因為庫存不足,半導體生產將出現被迫中斷的情況。光刻膠的短缺不僅會影響晶圓代工產業,還會對存儲產業的生產形成影響。
造成光刻膠供應短缺的原因是半導體成熟制程對于光刻膠的需求大幅增加,但是光刻膠的供給卻沒有同樣提升。目前,以信越化學為主的日本光刻膠制造商面臨產能瓶頸,根據信越化學此前的預估,即使啟動其位于日本國內的新工廠加入生產,產能也不能滿足目前的供應需求。此外,日本光刻膠價格的上漲也是一個造成供應短缺的原因之一。
據韓國海關的進出口貿易統計,2021年韓國從日本進口光刻膠的平均價格,每噸相較2020年上漲了16%以上。
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2022版光刻膠項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告
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