光刻膠市場深度調(diào)研及光刻膠進出口市場分析2023

• 黃文玉 2023年9月13日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 844 52
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光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

一、光刻膠的概念及分類

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。

光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。

電子束輻射刻蝕，就是以高速、高能(通常為10-20 keV)的粒子流與抗蝕劑分子碰撞，利用非彈性碰撞所喪失的能量被分子吸收后，誘發(fā)化學反應(yīng)，抗蝕劑分子、原子吸收這部分能量后，放出二次電子、三次電子，由于激勵抗蝕分子等原因而失去能量，漸漸地成為低能電子。組成光刻膠的原子為C、H、O等，這些原子的電離勢大約為幾十至幾百eV。因此，當這些電子(包括二次、三次電子)的能量低至幾十電子伏特時，將強烈地誘導化學反應(yīng)。

此外，在電子束電子失去能量的過程中，還會產(chǎn)生多種離子和原子團(化學自由基)，它們都有強烈的反應(yīng)性能，也會引起多種化學反應(yīng)。引起抗蝕劑分子交聯(lián)(負性光刻膠)或斷裂降解(正性光刻膠)，利用曝光后曝光區(qū)與非曝光區(qū)在溶劑中溶解性以及溶解速率的差異，經(jīng)顯影后得到圖像。電子束光刻要求抗蝕劑具有高的靈敏度、對比度以及抗干法蝕刻選擇性，由于電子束光刻不存在紫外吸收問題，因而對材料的選擇比較廣泛。

二、光刻膠行業(yè)市場現(xiàn)狀分析

在全球光刻膠市場中，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23%，半導體光刻膠占比21.9%，各類型光刻膠占比較為平均，全球光刻膠產(chǎn)品占比較為均衡。

在平板顯示器制造中，平板顯示器電路的制作、等離子顯示器障壁的制作、液晶顯示器彩色濾光片的制作均需采用光刻技術(shù)，使用不同類型的光刻膠。按用途可分為TFT用光刻膠、觸摸屏用光刻膠和濾光片用光刻膠。數(shù)據(jù)顯示，我國光刻膠市場規(guī)模由2017年58.7億元增至2020年84億元，年均復合增長率為12.7%。數(shù)據(jù)顯示，2020年我國光刻膠產(chǎn)量達13萬噸，同比增長18.2%。2021年，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)總量為15萬噸，同比增長15.38%;產(chǎn)業(yè)市場規(guī)模為93.3億元，同比增長11.07%。

隨著國內(nèi)外晶圓廠產(chǎn)能擴張項目逐步落地，全球半導體光刻膠市場需求呈現(xiàn)穩(wěn)步向上態(tài)勢，在市場需求增長及國家系列政策推動作用下，我國光刻膠的市場需求加速釋放，2017-2022年，國內(nèi)光刻膠年生產(chǎn)總量復合增長15.51%，產(chǎn)業(yè)市場規(guī)模復合增長9.03%。

目前，我國光刻膠產(chǎn)業(yè)市場主要產(chǎn)品型號種類包括有PCB光刻膠、面板光刻膠、半導體光刻膠等，產(chǎn)業(yè)市場消費占比比例分別為94%、3%、2%，行業(yè)主要需求市場仍由印制電路板(PCB)產(chǎn)業(yè)占據(jù)。隨著科技水平的不斷提升，物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、工業(yè)4.0、云端服務(wù)器、存儲設(shè)備等將成為驅(qū)動PCB需求增長的新方向，疊加PCB向高密度化、薄型高多層化等高技術(shù)含量化發(fā)展運行，將帶動國內(nèi)外PCB光刻膠用量持續(xù)增長。

三、光刻膠行業(yè)相關(guān)資訊及政策分析

國家科技重大專項“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝”專項(02專項)項目“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術(shù)研究”，經(jīng)過項目組全體成員的努力攻關(guān)，完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實驗室光刻膠性能的初步評價裝備的研發(fā)，達到了任務(wù)書中規(guī)定的材料和裝備的考核指標。2019年11月25日，8種“光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑”入選工信部《重點新材料首批次應(yīng)用示范指導目錄(2019年版)》。

為貫徹落實《國務(wù)院關(guān)于印發(fā)新時期促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》(國發(fā)〔2020〕8號)，經(jīng)國務(wù)院同意，現(xiàn)將有關(guān)進口稅收政策通知如下：對下列情形，免征進口關(guān)稅：(一)集成電路產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵原材料、零配件(即靶材、光刻膠、掩模版、封裝載板、拋光墊、拋光液、8英寸及以上硅單晶、8英寸及以上硅片)生產(chǎn)企業(yè)，進口國內(nèi)不能生產(chǎn)或性能不能滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料、消耗品。(二)集成電路用光刻膠、掩模版、8英寸及以上硅片生產(chǎn)企業(yè)，進口國內(nèi)不能生產(chǎn)或性能不能滿足需求的凈化室專用建筑材料、配套系統(tǒng)和生產(chǎn)設(shè)備(包括進口設(shè)備和國產(chǎn)設(shè)備)零配件。

四、光刻膠行業(yè)進出口市場分析

2022年，我國光刻膠產(chǎn)業(yè)進出口產(chǎn)品貿(mào)易實現(xiàn)平均價格分別為43953.13美元/噸、9152.48美元/噸，進出口產(chǎn)品貿(mào)易均價差達34800.64美元/噸。值得注意的是，我國光刻膠進口產(chǎn)品實現(xiàn)平均價格持續(xù)保持在43000美元/噸上下，與國內(nèi)出口光刻膠產(chǎn)品實現(xiàn)均價差持續(xù)保持在35000美元/噸上下。

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