離子注入行業(yè)發(fā)展前景 離子注入行業(yè)發(fā)展研究及投資價值咨詢

• 吳亞楠 2023年3月9日 來源：互聯(lián)網 1289 84
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二十大報告提出，注重高質量發(fā)展目標，解決重要領域“卡脖子”問題至關重要。而美國對半導體芯片產業(yè)鏈限制的持續(xù)加碼，也促使半導體產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)國產替代比率的大幅提升。

在工藝流程中，光刻的下一道工序就是刻蝕或離子注入。離子注入的優(yōu)點是能精確控制雜質的總劑量、深度分布和面均勻性，而且是低溫工藝(可防止原來雜質的再擴散等)，同時可實現自對準技術(以減小電容效應)。

離子注入的方法就是在真空中、低溫下，把雜質離子加速(對Si，電壓≥105 V)，獲得很大動能的雜質離子即可以直接進入半導體中;同時也會在半導體中產生一些晶格缺陷，因此在離子注入后需用低溫進行退火或激光退火來消除這些缺陷。

根據中研普華研究院撰寫的《2022版離子注入設備項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告》顯示：

離子注入行業(yè)發(fā)展研究及投資價值咨詢

離子注入的雜質濃度分布一般呈現為高斯分布，并且濃度最高處不是在表面，而是在表面以內的一定深度處。離子注入技術是一個方興未艾的新興產業(yè)，硬件設備的處理能力和效率有待進一步提高，在軟件(離子注入材料表面改性技術)方面，也有待進一步深化和細化，其應用范圍也有待不斷擴大。

全球離子注入機的領先企業(yè)主要分布在中國、美國和日本，其中，中國大陸擁有凱世通和中科信兩家離子注入機行業(yè)的龍頭企業(yè)，凱世通在光伏離子注入機方面遙遙領先。而美國則擁有近乎壟斷IC離子注入機市場的應用材料，以及漢辰科技、Axcelis、intevac等企業(yè)。日本也擁有日新、日本真空、住友重工等離子注入機知名廠商。

近年來，中國半導體行業(yè)發(fā)展迅速。今年二十大報告提出，注重高質量發(fā)展目標，解決重要領域“卡脖子”問題至關重要。而美國對半導體芯片產業(yè)鏈限制的持續(xù)加碼，也促使半導體產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)國產替代比率的大幅提升。

IC工藝對應流程主要分為硅片制造、前道與后道芯片制造環(huán)節(jié)。其中，前道芯片制造是被卡脖子最嚴重的環(huán)節(jié)，設備種類最多、復雜度最高，其流程主要包含薄膜沉積、光刻、刻蝕、離子注入、氧化擴散、CMP以及金屬化。據統(tǒng)計，2022年全球半導體設備市場規(guī)模高達1085億美金，同比增長5.9%。其中，中國大陸地區(qū)為全球最大的設備市場，2022年市場規(guī)模已達到320億美元。放眼國內主制程設備、零部件以及量測設備公司，高鵠資本通過深入的產業(yè)鏈分析，提出創(chuàng)業(yè)公司核心壁壘與關鍵指標的判斷標準，希望與行業(yè)內的投資人、企業(yè)家們共同交流、探討。

在半導體產業(yè)鏈中，上游為IC設計、半導體材料、半導體設備;中游為半導體制造、半導體封測;下游是各種應用領域。而半導體設備是半導體產業(yè)鏈的關鍵支撐，其技術的實施依賴于各種精密零部件，精密零部件的材料與加工技術是集成電路核心技術的載體，是半導體產業(yè)的基石，幾乎貫穿了半導體生產的整個流程。

隨著行業(yè)對制造設備精密零部件的性能要求越來越高，許多加工技術的精度目前已經趨于物理極限，泛半導體領域的應用是目前先進陶瓷頂尖技術領域之一。

離子注入行業(yè)發(fā)展前景

離子注入技術又是近30年來在國際上蓬勃發(fā)展和廣泛應用的一種材料表面改性技術。其基本原理是：用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和化學的相互作用，入射離子逐漸損失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、結構和性能發(fā)生變化，從而優(yōu)化材料表面性能，或獲得某些新的優(yōu)異性能。

數據顯示，大束流離子注入機占全部離子注入機市場份額的61%，中低束流離子注入機及高能離子注入機分別占比20%和18%。2016年中國離子注入機的市場規(guī)模約為23.22億元，2020年增長至44.53億元，年復合增長率為17.68%，近3年復合增長率為28.23%。

離子注入機進口量增加154臺，進口金額增長48.5%至9.13億美元，出口而言雖然出口量有所上升，但產品主要為中低端產品，對比進出口均價而言，單臺離子注入機進口均價是出口均價的40倍以上。2021年我國從美國進口234臺離子注入機，金額達6.11億美元，除此之外，日韓等半導體發(fā)展較快的發(fā)達國家也是進口關鍵來源國，分別從日本和韓國進口74和35臺。

離子注入行業(yè)報告對中國離子注入行業(yè)的發(fā)展現狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經濟環(huán)境、社會環(huán)境及技術環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機遇及挑戰(zhàn)。還重點分析了重點企業(yè)的經營現狀及發(fā)展格局，并對未來幾年行業(yè)的發(fā)展趨向進行了專業(yè)的預判。

本報告同時揭示了離子注入市場潛在需求與潛在機會，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當的投資時機和公司領導層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準確的市場情報信息及科學的決策依據，同時對政府部門也具有極大的參考價值。

未來，離子注入行業(yè)發(fā)展前景如何?想了解關于更多行業(yè)專業(yè)分析，請點擊《2022版離子注入設備項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告》。

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