濺射靶材在我國還屬于較新的行業，但濺射鍍膜和終端應用已經發展得較為成熟，高純度金屬以及濺射靶材等關鍵原材料主要依靠進口供給。
靶材是在濺射過程中被高速金屬等離子體流轟擊的目標材料，是制備功能薄膜的原材料，又稱“濺射靶材”，純度為99.95%以上，更換不同靶材可得到不同的膜系，實現導電或阻擋等功能。靶材種類繁多，按材質可劃分為金屬靶材、陶瓷靶材和合金靶材三類。
濺射靶材在我國還屬于較新的行業，但濺射鍍膜和終端應用已經發展得較為成熟，高純度金屬以及濺射靶材等關鍵原材料主要依靠進口供給。因此，亟需將產業鏈向上游擴展，加大研發投入，大力發展高純金屬提純和濺射靶材制造業務，形成相對完整的產業鏈條。
據中研產業研究院報告《2021-2025年中國靶材行業發展趨勢及投資預測報告》分析
濺射靶材行業具有極高的客戶認證壁壘與技術壁壘，海外公司起步早，美日公司長期壟斷全球市場，日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯合計占據全球80%的份額。在海外靶材關稅壁壘和半導體材料自主可控的背景下，靶材國產替代大幕拉開。國內公司有研新材、江豐電子依靠自身優勢抓住機遇，逐漸成長為國內靶材的龍頭。
目前全球靶材制造業，尤其是高純度靶材市場，主要份額集中在海外巨頭手中。美日龍頭企業在掌握核心生產技術后，實施嚴格保密措施來限制技術外泄，并通過擴張整合把握全球濺射靶材市場的主動權，先發優勢明顯。從靶材種類角度看，日礦金屬是銅靶的主要供應商;攀時與世泰科為鉬靶的主要供應商，住友化學，愛發科為鋁靶的主要供應商;三井、日礦金屬和優美科則是ITO靶材主要供應商。
目前，全球濺射靶材市場主要有四家企業，分別是JX日礦金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，市場份額占比分別為30%、20%、20%和10%，合計壟斷了全球80%的市場份額。
近年來，隨著國內少數企業加大技術研發投入，經過數年的科技攻關和產業化應用，已逐漸突破關鍵技術門檻，擁有了部分產品的規模化生產能力，這些企業正在經歷快速發展時期，上升勢頭較快。
靶材的發展，將形成技術與服務決定企業成敗的局面。技術力量雄厚、研發產品品種多并具有幾種特有產品的靶材公司會在市場競爭中取得話語權。規模的擴大使銷售過程對資金的要求提高，資金占用量加大，周轉時間變長，這些都對靶材企業運營管理提出更高挑戰。鍍膜行業的擴大及發展，將會使得該行業競爭愈演愈烈，對靶材供應商的產品服務要求更高。
在行業兼并重組加劇，以及2018年底進口靶材的免稅期于結束的背景下，預計國內企業靶材產品供應水平能力以及國產化率不斷提升持續成為行業發展趨勢，同時國內外技術差距將逐步縮小，具體將體現為高純金屬提純技術以及靶材制造技術的提升。半導體領域對靶材晶粒晶向控制的要求提高以及由薄膜太陽電池轉化效率提高帶來的對該類電池需求的增長將成為行業驅動點，同時，隨著顯示面板、半導體產業逐步向國內轉移，國內高端靶材需求有望持續增長。
想要了解更多靶材行業的發展前景，請查閱《2021-2025年中國靶材行業發展趨勢及投資預測報告》。
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2021-2025年中國靶材行業發展趨勢及投資預測報告
靶材是制備功能薄膜的原材料，以99.95%以上高純金屬為原料制備，用于面板、半導體、光伏和磁記錄媒體等領域，實現導電或阻擋等功能。其中，半導體領域對純度和技藝要求最高，5N5以上。靶材種類...
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